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GEIC693CPU374-GU美國
內(nèi)容簡介 GE,工控,控制器
GEI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+;Mg2+攜帶電流的機(jī)會(huì)，降低Ca2+ &Mg2+流動(dòng)通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強(qiáng)度，增加對(duì)垢類的溶解、降低垢類形成的機(jī)會(huì)。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強(qiáng)、低能耗的特點(diǎn)。
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